Initial Zr-FS Enam.Occlus.EO-15 50g

GC Initial Zr-FS Enam.Occlus.EO-15 50g

Das GC Initial Zr-FS Enam.Occlus.EO-15 bietet Ihnen eine natürliche Ästhetik und Lichtdynamik, die keine Kompromisse eingeht. Es ermöglicht eine präzise Anpassung des Wärmeausdehnungskoeffizienten (WAK) ohne Zugspannungen, was für die Langlebigkeit Ihrer Restaurationen entscheidend ist.

Dank des hohen Feldspatanteils und der optimierten Kristallstruktur bietet dieses Material eine Lichtreflexion und -dynamik, die mit natürlichen Zähnen vergleichbar ist. Es ist speziell auf den WAK-Wert von hochfesten Zirkonoxidgerüsten abgestimmt, was eine perfekte Integration in Ihre zahnärztlichen Arbeiten gewährleistet. Der geringe Brennschwund und die ausgezeichnete Standfestigkeit ermöglichen eine einfache und komfortable Modellierung sowie Schichtung des antagonistenfreundlichen Materials. Darüber hinaus lässt sich der niedrige Glasanteil problemlos bearbeiten, sodass der Zahntechniker es mühelos beschleifen und polieren kann.

Produktdetails des GC Initial Zr-FS Enam.Occlus.EO-15

• Natürliche Ästhetik mit hervorragender Lichtdynamik
• Präzise WAK-Anpassung ohne Zugspannungen
• Hoher Feldspatanteil für optimale Lichtreflexion
• Optimierte Kristallstruktur für verbesserte Eigenschaften
• Geringer Brennschwund und gute Standfestigkeit
• Antagonistenfreundliches Material für einfache Modellierung
• Leichte Bearbeitung durch niedrigen Glasanteil

Technische Daten des GC Initial Zr-FS Enam.Occlus.EO-15

• Feldspatanteil: Hoch
• Brennschwund: Gering
• WAK-Anpassung: Präzise
• Bearbeitbarkeit: Einfach und komfortabel
• Glasanteil: Niedrig